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특허/실용신안

반사형마스크 및 마스크 제조방법과 그것을 사용한 패턴 형성 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼
출원번호 10-1991-0015547
출원일자 1991-09-06
공개번호 20080509
공개일자 1999-04-01
등록번호 10-0184278-0000
등록일자 1998-12-18
권리구분 KPTN
초록 패턴을 광학적으로 형성하기 위해 사용하는 반사형 마스크로서파장이 인X선과 자외선중 적어도 하나를 반사하는 여러개의 광학 반사면을 포함하며, 상기 반사면은 단차를 가지며, 상기 단차의 반사면에 의해 각각 반사된 광선 사이의 위상 관계가 변화되는 반사형 마스크.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1019910015547
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE
주제어 (키워드)