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특허/실용신안

질화갈륨층을 포함하는 기판 및 그 제조 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 엔지케이 인슐레이터 엘티디
출원번호 10-2016-7016211
출원일자 2016-06-17
공개번호 20160707
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 질화갈륨층을 갖는 기판에 있어서, 질화갈륨층의 표면 처리 후의 표면 손상을 저감하여, 그 위에 형성하는 기능 소자의 품질을 개선한다. 적어도 질화갈륨층을 갖는 기판(4)을 제공한다. 유도 결합식 플라즈마 발생 장치를 구비한 플라즈마 에칭 장치를 이용하며, 규격화된 직류 바이어스 전위를 -10 V/㎠ 이상으로 하여 불소계 가스를 도입하여, 질화갈륨층(3)의 표면(3a)을 드라이 에칭 처리한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167016211
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-033/02,C30B-029/38,C30B-033/12,H01J-037/32,H01L-021/304,H01L-021/306,H01L-021/3065,H01L-033/00
주제어 (키워드)