기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

양각 몰드 제조방법, 양각 몰드를 이용하여 제조한 막 및 그 제조방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 한국전기연구원
출원번호 10-2015-0113243
출원일자 2015-08-11
공개번호 20160226
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은, 양각 몰드 제조방법, 양각 몰드를 이용하여 제조한 막 및 그 제조방법에 관한 것으로, 음각 몰드용 금속 표면을 양극산화하여 제1양극산화층을 형성하는 단계와; 상기 제1양극산화층을 제거하여 상기 음각 몰드용 금속 표면에 함몰된 나노시드를 형성하는 단계와; 상기 나노시드에 양극산화를 통해 제2양극산화층을 형성하는 단계와; 상기 나노시드 영역의 상기 제2양극산화층을 식각하여 상기 나노시드보다 직경 및 깊이가 증가한 나노 패턴을 형성하는 단계와; 상기 나노 패턴이 형성된 음각 몰드용 금속에 양각 몰드용 소재를 증착 및 탈형하여 양각 몰드를 얻는 단계를 포함하는 것을 기술적 요지로 한다. 본 발명은 기존 고분자 막과는 달리 아주 균일한 크기의 직선형 기공을 가져, 고선택성과 아울러 낮은 막 막힘, 보다 높은 유체 투과율을 가지면서, 막 전후에서의 압력 저하가 적고, 세척주기가 길어 수명도 긴, 기계적 성질이 양호한, 아주 저렴한 고분자 막으로, 거의 대부분의 고분자 물질을 사용하여 제조 가능하다. 또한 기존 금속 막과는 다른 아주 적은 크기의 균일한 크기의 직선형 기공을 가져, 고선택성과 아울러, 낮은 막 막힘, 보다 높은 유체 투과율을 가지면서, 막 전후에서의 압력 저하가 적고, 세척주기가 길어 수명도 긴, 내열성과 내화학성, 내염소성, 기계적 성질이 우수한, 아주 저렴한 금속 막을 얻을 수 있다. 본 발명의 고분자 분리막의 경우 기존의 수처리나 해수담수화용 UF와 MF용 분리막이나, 폐수, 오수의 정제용 분리막, 실내공기 정화나 미세먼지 제거용 분리막, 그리고 Lab on a chip이나 단백질과 바이러스 분리용 분리막, 혈액투석기에의 적용 시에는 보다 우수한 선택성을 제공하여 인체에 유익한 물질을 보다 효과적으로 분리 재투입할 수 있는 등 광범위한 분야에서활용이 가능하여, 기존 고분자 막의 일부를 대체할 것으로 사료되고, 본 발명의 금속 분리막은 기존의 수처리나 해수담수화용 UF와 MF용 분리막이나, 폐수, 폐유, 오수의 정제용 분리막, 여과의 선택성이 높은 유류나 식음료, 약물의 정제용 분리막, 실내공기나 폐가스, 연소가스 정화용 분리막, 미세먼지 제거용 분리막, 그리고 Lab on a chip이나 단백질과 바이러스 분리 등의 새로운 분야에 적용될 수 있을 뿐만 아니라, 혈액투석기에의 적용 시에는 보다 우수한 선택성을 제공하여 인체에 유익한 물질을 보다 효과적으로 분리 재투입할 수 있는 등의 특성을 가져, 우수한 유연성을 요구하는 분야를 제외한 대부분의 광범위한 분리공정 분야에 우수한 특성을 가지면서 적용이 가능하여, 대부분의 금속과 세라믹 막 그리고 고분자 막의 일부가 대체할 것으로 사료된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150113243
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B29C-033/38,B01D-067/00,B01D-069/02,C25D-011/02,C25D-011/12
주제어 (키워드)