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특허/실용신안

현상 부재, 프로세스 카트리지 및 전자 사진 장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 캐논 가부시끼가이샤
출원번호 10-2016-7010964
출원일자 2016-04-26
공개번호 20160519
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명에 의하면, 고온 하에서의 변형 회복성이 우수하고, 또한 저온 하에서의 내필르밍성을 만족시키는 고품위의 현상 부재가 제공된다.본 발명의 현상 부재는, 축심체와, 상기 축심체의 외주면에 형성된 탄성층과, 상기 탄성층의 외주면을 피복하고 있는 표면층을 포함하고, 상기 표면층은 제1 수지 및 제2 수지를 함유하고, 상기 제1 수지는 인접하는 2개의 우레탄 결합 사이에 특정한 구조를 갖고, 상기 제2 수지는 특정한 구조를 가지며 유리 전이점 Tg가 20℃ 이상 120℃ 이하인 수지이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167010964
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G03G-015/08,B32B-025/08,B32B-025/20,B32B-027/40,C08L-033/00,C08L-075/06,C08L-075/08,C08L-083/00
주제어 (키워드)