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특허/실용신안

고순도 2-나프틸아세토니트릴 및 이의 제조 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 가부시키가이샤 에이피아이 코포레이션
출원번호 10-2022-7017885
출원일자 2022-05-26
공개번호 20220629
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 다양한 의약품, 농약, 화학 제품 등의 합성을 위한 출발 물질 또는 중간체로 유용한 불순물이 거의 없는 고순도 2-나프틸아세토니트릴, 및 이의 제조 방법을 제공한다. 2-나프틸아세토니트릴의 HPLC 순도가 95 면적% 이상이고 하기 화학식 (a) - (i) 로 나타내지는 나프탈렌 화합물을 미리결정된 면적% 이하의 함량으로 포함하는, 고순도 2-나프틸아세토니트릴. 하기 단계 1 및 단계 2 를 포함하는, 고순도 2-나프틸아세토니트릴의 제조 방법: 단계 1: 필요에 따라 첨가제의 존재 하에 2'-아세토나프톤을 빌게로트 반응에 적용시키고, 수득된 아미드 화합물을 가수분해하여 2-나프틸아세트산을 수득하는 단계; 단계 2: 단계 1 에서 수득된 2-나프틸아세트산과 할로겐화제 및 술파미드를 필요에 따라 촉매 존재 하에 유기 용매 중에서 반응시켜 2-나프틸아세토니트릴을 수득하는 단계.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020227017885
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C07C-255/33,C07C-253/34
주제어 (키워드)