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특허/실용신안

캡 층을 갖는 기판에 대한 증착후 세정 방법 및 제제

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 램 리써치 코포레이션
출원번호 10-2016-7005186
출원일자 2016-02-26
공개번호 20160317
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명의 일 실시형태는 집적 회로를 제조하는 방법이다. 이 방법은, 금속 및 유전체 다마신 금속배선 층을 갖는 기판을 제공하는 단계 및 실질적으로 금속 상에 캡을 증착하는 단계를 포함한다. 캡의 증착 이후에, 7 내지 약 13 의 세정액 pH 를 제공하기 위한 아민을 포함하는 용액에 의해 기판이 세정된다. 본 발명의 다른 실시형태는 기판을 세정하는 방법이다. 본 발명의 또 다른 실시형태는 세정액의 제제이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167005186
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C11D-007/32,C11D-011/00,C11D-007/50,H01L-021/02,H01L-021/768
주제어 (키워드)