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특허/실용신안

이온 주입 균일성을 제어하기 위한 장치 및 기술들

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크.
출원번호 10-2015-7034315
출원일자 2015-12-01
공개번호 20160114
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 이온 주입기내 이온 빔을 제어하는 시스템은 이온 빔의 전파 방향에 수직인 제 1 방향을 따라서 이온 빔의 복수개의 빔 전류 측정을 수행하는 검출기를 포함한다. 시스템은 또한 복수개의 빔 전류 측정에 기초하여 빔 전류 프로파일을 결정하는 분석 컴포넌트, 빔 전류 프로파일은 제 1 방향을 따라서 빔 전류 변화를 포함하고; 및 빔 높이가 임계값 아래인 것을 빔 전류 프로파일이 나타낼 때 제 1 방향을 따라서 이온 빔의 높이를 조정하는 조정 컴포넌트를 포함한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157034315
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01J-037/304,C23C-014/48,C23C-014/54,G21K-005/00,H01J-037/317
주제어 (키워드)