광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료 및 그 제조 방법
기관명 | NDSL |
---|---|
출원인 | 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 |
출원번호 | 10-2016-7014877 |
출원일자 | 2016-06-03 |
공개번호 | 20160714 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물은, 폴리이소시아네이트 (A)와, 폴리티올 (B)와, 하기 화학식 (1)로 표시되는 산성 인산 에스테르 (C)와, 극대 흡수 피크가 350㎚ 이상 370㎚ 이하의 범위인 1종 이상의 자외선 흡수제 (D)를 포함하여 이루어지고, 폴리이소시아네이트 (A) 중의 이소시아네이트기의 합계 몰수를 100몰%로 한 경우에 있어서, 2급 이소시아네이트기가 20몰% 이상 포함되고, 산성 인산 에스테르 (C)가, 폴리이소시아네이트 (A)와 폴리티올 (B)의 총 중량에 대하여 100 내지 700ppm의 양으로 포함된다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167014877 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
---|---|
ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | G02B-001/04,C08G-018/24,C08G-018/38,C08G-018/72,C08G-018/73,C08G-018/75,C08K-005/521 |
주제어 (키워드) |