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새로운 WATER VAPOR Ar 플라즈마 처리를 통한 초고전도도 PEDOT 박막의 제작 방법 및 이를 포함하는 전자소자

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기관명	NDSL
출원인	(주)플렉솔루션
출원번호	10-2016-0066279
출원일자	2016-05-30
공개번호	20160623
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 FeCl 3 , DUDO(Polyurethane diol solution) 및 PEG(polyethylene glycol)-PPG(polypropylene glycol)-PEG를 포함하는 산화제로 이루어진 산화제 층을 포함하는 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT) 박막을 제공하며, 또한 a) 기판을 세척 및 표면 개질하는 단계; b) 상기 기판 상에 FeCl 3 , DUDO(Polyurethane diol solution), 및 PEG(polyethylene glycol)-PPG(polypropylene glycol)-PEG를 포함하는 산화제로 산화제 층을 형성하는 단계; c) 상기 산화제 층 위에 PEDOT 박막을 증착하는 단계; 및 d) 상기 c) 단계에서 PEDOT 박막이 증착된 상기 기판을 어닐링하는 단계를 포함하는 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT) 박막 제조 방법을 제공한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160066279
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