리소그래피 장치용 광학 요소, 이러한 광학 요소를 포함하는 리소그래피 장치 및 광학 요소 생성 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. |
출원번호 | 10-2016-7020693 |
출원일자 | 2016-07-27 |
공개번호 | 20160811 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 리소그래피 장치는 방위설정된 탄소 나노튜브 시트를 포함하는 광학 요소를 포함한다.상기 광학 요소는 약 20 내지 500 nm 범위의 요소 두께를 가지며, EUV 방사선과의 수직 조사 하에서 약 1 내지 20 nm 범위의 파장을 갖는 EUV 방사선에 대해 적어도 약 20 %의 투과율을 갖는다.상기 방위설정된 탄소 나노튜브 시트는 본질적으로 광학 요소로서 사용될 수 있으며, 잔해를 감소시키고, 및/또는 EUV/원하지 않는 방사선의 비율을 개선하도록 설계될 수 있다.상기 시트는 그 강도로 인해 지지체를 반드시 필요로 하지는 않는다.본 발명의 광학 요소는 지지되지 않을 수 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167020693 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/027,G03F-007/20 |
주제어 (키워드) |