반도체 장치 및 그 제작 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
출원번호 | 10-2016-0095418 |
출원일자 | 2016-07-27 |
공개번호 | 20160811 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 산화물 반도체를 사용한 박막 트랜지스터에 있어서, 전계 효과 이동도를 향상시키는 것을 과제의 하나로 한다.또한, 박막 트랜지스터의 전계 효과 이동도를 향상시키더라도, 오프 전류의 증대를 억제하는 것을 과제의 하나로 한다. 산화물 반도체층을 사용한 박막 트랜지스터에 있어서, 산화물 반도체층과 게이트 절연층의 사이에, 상기 산화물 반도체층보다 도전율이 높고, 막 두께가 얇은 반도체층을 형성함으로써, 상기 박막 트랜지스터의 전계 효과 이동도를 향상시켜, 또한 오프 전류의 증대를 억제할 수 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160095418 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-029/45,H01L-027/12,H01L-029/06,H01L-029/66,H01L-029/786 |
주제어 (키워드) |