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CMP후 세정 제제용 신규한 항산화제

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기관명	NDSL
출원인	엔테그리스, 아이엔씨.
출원번호	10-2016-7019997
출원일자	2016-07-21
공개번호	20160808
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 위에 화학 기계적 연마(CMP)후 잔류물 및 오염물을 갖는 마이크로전자 장치로부터 상기 CMP후 잔류물 및 오염물을 세정하기 위한 세정 조성물 및 방법에 관한 것이다. 그 조성물은 저-k 유전체 물질 또는 구리 인터커넥트 물질을 손상시키는 일 없이 마이크로전자 장치의 표면으로부터 CMP후 잔류물 및 오염물의 효과적인 세정을 고도로 달성한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167019997
첨부파일

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