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특허/실용신안

수직형 반응기를 이용한 질화규소 분말 제조장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 오씨아이 주식회사
출원번호 10-2014-0043985
출원일자 2014-04-14
공개번호 20150730
공개일자 2015-07-27
등록번호 10-1535380-0000
등록일자 2015-07-02
권리구분 KPTN
초록 질화규소 분말 제조장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 클로라이드계 실리콘 화합물과 암모니아를 기상 반응시켜, 실리콘 디이미드와 염화암모늄 혼합 분말을 합성하되 혼합 분말의 적층 두께를 조절함으로써 염화암모늄을 효과적으로 제거할 수 있는 질화규소 분말 제조장치에 관하여 개시한다. 본 발명은 내부에 수직형의 반응 공간을 형성하는 반응기; 원료가스가 상기 반응 공간에서 상향식 흐름을 가지도록 원료가스를 반응기 내부에 각각 공급하는 원료가스 공급부; 상기 반응기에서 배출되는 부산물을 포집하기 위한 부산물 포집부; 상기 반응 공간에 복층으로 배열되어 상부에 생성물인 실리콘 디이미드와 부산물인 염화암모늄 혼합분말이 적층되는 격막; 및 상기 반응 공간에 생성된 생성물인 실리콘 디이미드를 열분해 온도까지 가열하기 위한 가열수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화규소 분말 제조장치를 제공한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140043985
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B01J-019/24,B01J-019/26,B01J-006/00,C01B-021/068,C01B-033/00
주제어 (키워드)