기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

수평형 반응기를 이용한 질화규소 분말 제조장치 및 이를 이용한 질화규소 분말 제조방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 오씨아이 주식회사
출원번호 10-2014-0043984
출원일자 2014-04-14
공개번호 20150730
공개일자 2015-07-27
등록번호 10-1535379-0000
등록일자 2015-07-02
권리구분 KPTN
초록 질화규소 분말 제조장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 클로라이드계 실리콘 화합물과 암모니아를 기상 반응시켜, 실리콘 디이미드와 염화암모늄 혼합 분말을 합성하되 혼합 분말의 적층 두께를 조절함으로써 염화암모늄을 효과적으로 제거할 수 있는 질화규소 분말 제조장치에 관하여 개시한다. 본 발명은 내부에 수평형의 반응 공간을 형성하는 반응기; 원료가스가 상기 반응 공간에서 수평식 흐름을 가지도록 원료가스를 반응기 내부에 각각 공급하는 원료가스 공급부; 상기 반응기에서 배출되는 부산물을 포집하기 위한 부산물 포집부; 상기 반응 공간에 복층으로 배열되어 상부에 생성물인 실리콘 디이미드와 부산물인 염화암모늄 혼합분말이 적층되는 격막; 및 상기 반응 공간에 생성된 생성물인 실리콘 디이미드를 열분해 온도까지 가열하기 위한 가열수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화규소 분말 제조장치를 제공한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140043984
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B01J-019/24,B01J-019/26,B01J-006/00,C01B-021/068,C01B-033/00
주제어 (키워드)