- HOME
- 홈페이지 이용안내
특허/실용신안
패턴화된 웨이퍼 기하학적 형상 측정을 사용한 프로세스 유도 비대칭 검출, 정량화, 및 제어
특허 실용신안 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 |
| 출원번호 | 10-2018-7002047 |
| 출원일자 | 2018-01-22 |
| 공개번호 | 20180201 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 패턴화된 웨이퍼 기하학적 형상 측정치를 사용하여 프로세스 유도 비대칭 시그니쳐를 검출, 정량화 및 제어하기 위한 시스템 및 방법이 개시된다. 상기 시스템은, 웨이퍼가 제조 프로세스를 거치기 이전에 웨이퍼의 웨이퍼 기하학적 형상 측정치의 제1 세트를 획득하도록 그리고 제조 프로세스 이후에 웨이퍼의 웨이퍼 기하학적 형상 측정치의 제2 세트를 획득하도록 구성되는 기하학적 형상 측정 툴(geometry measurement tool)을 포함할 수도 있다. 시스템은 또한 기하학적 형상 측정 툴과 통신하는 프로세서를 포함할 수도 있다. 프로세서는: 웨이퍼 기하학적 형상 측정치의 제1 세트 및 웨이퍼 기하학적 형상 측정치의 제2 세트에 기초하여 기하학적 형상 변화 맵을 계산하도록; 제조 프로세스에 의해 웨이퍼 기하학적 형상에 대해 유도되는 비대칭 성분을 검출하기 위해 형상 변화 맵을 분석하도록; 웨이퍼 기하학적 형상에서 검출되는 비대칭 성분에 기초하여 제조 프로세스에 의해 유도되는 비대칭 오버레이 에러를 추정하도록 구성될 수도 있다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020187002047 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | H01L-021/66,H01L-021/027 |
| 주제어 (키워드) |