이중 파장 어닐링 방법 및 장치
기관명 | NDSL |
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출원인 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 |
출원번호 | 10-2016-7019171 |
출원일자 | 2016-07-15 |
공개번호 | 20160825 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 반도체 기판들을 열 프로세싱하기 위한 방법 및 장치가 설명된다.열 프로세싱 에너지의 필드를 제공하기 위해 고체 상태 복사 방출기가 이용된다.활성화 에너지의 필드를 제공하기 위해 제2 고체 상태 복사 방출기가 이용된다.열 프로세싱 에너지 및 활성화 에너지는 기판의 처리 구역에 지향되고, 여기서 활성화 에너지는 기판에서의 열 프로세싱 복사의 흡수를 증가시켜, 활성화 에너지에 의해 조명되는 영역들에서의 기판의 열 프로세싱을 초래한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167019171 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/263,H01L-021/268,H01L-021/324 |
주제어 (키워드) |