기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

이온 주입 시스템을 위한 미량 금속들 오염을 저감시킨 이온 소스

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
출원번호 10-2016-7019225
출원일자 2016-07-15
공개번호 20160825
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 이온 주입 시스템을 위한 이온 소스 챔버(120)는, 이온화 영역을 적어도 부분적으로 한정하는 하우징으로서, 이러한 이온화 영역을 통해 고에너지 전자들이 캐소드(124)로부터 이동하여 하우징의 내부 내로 분사된 가스 분자들을 이온화하는, 하우징; 하우징 내부의 하나 또는 그 초과의 내부 벽들을 규정하는 라이너 섹션(133, 135, 137, 139)으로서, 각 라이너 섹션은 이온 주입 시스템의 작동 동안에 이온화 영역에 노출된 내부로 향하는 표면을 포함하는, 라이너 섹션; 캐소드 주위에 배치된 캐소드 실드(153); 캐소드로부터 이격된 리펠러(180); 이온 소스 챔버로부터 이온들을 방출하기 위한 소스 구멍(126)을 포함하는 플레이트(128)를 포함하며, 리펠러, 라이너 섹션, 캐소드 실드; 플레이트, 또는 소스 구멍을 규정하는 플레이트 내의 인서트 중 적어도 하나는 탄화규소를 포함하고, 이 탄화규소는 과잉 탄소를 갖는 화학식 SiC x 의 비화학양론적 소결 재료이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167019225
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01J-037/08,H01J-037/317
주제어 (키워드)