이온 주입 시스템을 위한 미량 금속들 오염을 저감시킨 이온 소스
기관명 | NDSL |
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출원인 | 액셀리스 테크놀러지스, 인크. |
출원번호 | 10-2016-7019225 |
출원일자 | 2016-07-15 |
공개번호 | 20160825 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 이온 주입 시스템을 위한 이온 소스 챔버(120)는, 이온화 영역을 적어도 부분적으로 한정하는 하우징으로서, 이러한 이온화 영역을 통해 고에너지 전자들이 캐소드(124)로부터 이동하여 하우징의 내부 내로 분사된 가스 분자들을 이온화하는, 하우징; 하우징 내부의 하나 또는 그 초과의 내부 벽들을 규정하는 라이너 섹션(133, 135, 137, 139)으로서, 각 라이너 섹션은 이온 주입 시스템의 작동 동안에 이온화 영역에 노출된 내부로 향하는 표면을 포함하는, 라이너 섹션; 캐소드 주위에 배치된 캐소드 실드(153); 캐소드로부터 이격된 리펠러(180); 이온 소스 챔버로부터 이온들을 방출하기 위한 소스 구멍(126)을 포함하는 플레이트(128)를 포함하며, 리펠러, 라이너 섹션, 캐소드 실드; 플레이트, 또는 소스 구멍을 규정하는 플레이트 내의 인서트 중 적어도 하나는 탄화규소를 포함하고, 이 탄화규소는 과잉 탄소를 갖는 화학식 SiC x 의 비화학양론적 소결 재료이다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167019225 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01J-037/08,H01J-037/317 |
주제어 (키워드) |