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특허/실용신안
플루오로술폰산리튬의 제조 방법, 플루오로술폰산리튬, 비수계 전해액, 및 비수계 전해액 2 차 전지
특허 실용신안 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 |
| 출원번호 | 10-2020-7002296 |
| 출원일자 | 2020-01-22 |
| 공개번호 | 20200206 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 본 발명은 비수용매 중에서 리튬염 및 플루오로술폰산을 반응시키는 공정을 포함하는, 플루오로술폰산리튬을 제조하는 방법으로서, 그 리튬염이 상기 반응 공정에 의해 물을 발생시키지 않는 리튬염인 플루오로술폰산리튬의 제조 방법에 관한 것이다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020207002296 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | H01M-010/0567,C01B-017/46,H01M-010/052,H01M-010/0525,H01M-010/0568,H01M-010/0569,H01M-004/136,H01M-0 |
| 주제어 (키워드) |