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리소그라피 및 기타 용도에서 극자외방사선과 함께 사용하기 위한 재료, 구성요소 및 방법

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기관명	NDSL
출원인	자이스왈, 수프리야
출원번호	10-2017-7017466
출원일자	2017-06-23
공개번호	20180104
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	자외선(UV), 극자외선(EUV) 및/또는 연 X-선 파장에서 동작하는 장치 및 시스템에서 사용하기 위한 나노 구조화된 포토닉 재료, 및 관련된 구성 요소가 기술된다. 그러한 재료는 특정 UV, EUV 또는 소프트 X-선 파장 또는 파장 범위와 같은 선택된 파장 범위에 맞게 조정된 나노 스케일 피처로 제조될 수 있다. 그러한 재료는 리소그래피, 웨이퍼 패터닝, 천문학 및 우주 응용, 생체 의학 응용, 생명 공학 또는 기타 응용과 같은 응용분야에서 사용하기 위해 미러, 렌즈 또는 기타 광학, 패널, 광원, 마스크, 포토레지스트 또는 기타 구성 요소와 같은 구성 요소를 만드는 데 사용될 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020177017466
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