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유도성 커플링된 플라즈마(ICP) 반응기를 위한 동적인 이온 라디칼 시브 및 이온 라디칼 개구

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기관명	NDSL
출원인	어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
출원번호	10-2016-7017345
출원일자	2016-06-28
공개번호	20160707
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	여기에서 설명된 실시예들은 이동가능한 개구를 가지는 이온 에칭 챔버를 이용하여 기판을 에칭하는 장치 및 방법들을 제공한다.이온 에칭 챔버는, 프로세싱 구역을 둘러싸는 챔버 본체, 프로세싱 구역에 배치되고 기판 수용 표면을 가지는 기판 지지부, 기판 수용 표면을 향하는 챔버 본체의 벽에 배치된 플라즈마 소스, 플라즈마 소스와 기판 수용 표면 사이에 배치된 이온-라디칼 차폐부(shield), 및 이온-라디칼 차폐부와 기판 수용 표면 사이의 이동가능한 개구 부재를 갖는다.이동가능한 개구 부재는, 리프트 링 및 리프트 링으로부터 개구 부재로의 리프트 지지부들을 포함하는 리프트 조립체에 의해 작동된다.이온-라디칼 차폐부는 개구 부재를 통해 배치된 차폐부 지지부들에 의해 지지된다.개구 크기, 형상, 및/또는 중심 축 위치가 삽입체들을 이용하여 변화될 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167017345
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