질화갈륨층을 포함하는 기판 및 그 제조 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 |
출원번호 | 10-2016-7016211 |
출원일자 | 2016-06-17 |
공개번호 | 20160707 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 질화갈륨층을 갖는 기판에 있어서, 질화갈륨층의 표면 처리 후의 표면 손상을 저감하여, 그 위에 형성하는 기능 소자의 품질을 개선한다. 적어도 질화갈륨층을 갖는 기판(4)을 제공한다. 유도 결합식 플라즈마 발생 장치를 구비한 플라즈마 에칭 장치를 이용하며, 규격화된 직류 바이어스 전위를 -10 V/㎠ 이상으로 하여 불소계 가스를 도입하여, 질화갈륨층(3)의 표면(3a)을 드라이 에칭 처리한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167016211 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-033/02,C30B-029/38,C30B-033/12,H01J-037/32,H01L-021/304,H01L-021/306,H01L-021/3065,H01L-033/00 |
주제어 (키워드) |