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광응답성의 분산제를 함유하는 분산제 함유 탄소 재료막, 그 분산제 함유 탄소 재료막을 사용한 탄소 재료막의 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	고쿠리츠켄큐카이하츠호진 상교기쥬츠 소고켄큐쇼
출원번호	10-2016-7002878
출원일자	2016-02-01
공개번호	20160422
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	분산제를 전혀 함유하지 않거나, 함유해도 그 함유량이 매우 적은 CNT 등의 탄소 재료막을 용이하게 형성할 수 있는 분산제 함유 탄소 재료막, 및, 그 분산제 함유 탄소 재료막을 사용한 패턴화 탄소 재료막 등의 탄소 재료막의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 하는 것으로, 그 분산제 함유 탄소 재료막은, 광응답성을 갖고, 하기 일반식 (Ⅰ) 로 나타내는 스틸벤계 또는 아조벤젠계 분산제를 함유하는 것을 특징으로 한다. [식 중, R 1 ∼ R 6 은, 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 직사슬형 혹은 탄소수 3 ∼ 6 의 분기형 알킬기이다. A 는 탄소 원자 또는 질소 원자이다. X 는 아니온이다. n 은 nX 가 -2 가가 되는 수이다.]
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167002878
첨부파일

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