| 초록 |
패턴의 적어도 하나의 이미지로 감방사선성 기판(W)을 노광하기 위한 투영 노광 방법으로서, 패턴이 투영 렌즈의 오브젝트 평면(OS)의 영역에 배치되고 상기 투영 렌즈를 이용하여 상기 투영 렌즈의 이미지 평면(IS)에 이미징될 수 있도록 조명 시스템(ILL)과 투영 노광 장치(WSC)의 투영 렌즈(PO) 사이에 패턴을 제공하는 단계 - 상기 이미지 평면은 상기 오브젝트 평면에 대해 광학적으로 공액이며, 상기 패턴의 이미징-관련 특성이 패턴 데이터에 의해 특징화될 수 있음 - ; 사용 사례에 특정하고 조명 설정 데이터에 의해 특징화될 수 있는 조명 설정에 따라 상기 조명 시스템(ILL)에 의해 제공되는 조명 방사선으로 패턴의 조명 영역을 조명하는 단계를 포함하되, 상기 사용 사례에 특정하고, 패턴 데이터 및/또는 조명 설정 데이터를 포함하는 사용 사례 데이터를 결정하는 단계; 상기 사용 사례 데이터를 이용하여 이미징 사양 데이터를 결정하는 단계; 상기 투영 렌즈의 이미징 양태를 상기 사용 사례에 적응하는 것을 목적으로 상기 이미징 사양 데이터에 의존하는 방식으로 상기 투영 렌즈의 제어 유닛(CU)을 이용하여 상기 투영 렌즈(PO)의 제어 가능한 광학 구성 성분을 제어하는 단계; 및 상기 사용 사례에 적응된 상기 투영 렌즈의 도움으로 상기 기판 상에 상기 패턴을 이미징하는 단계를 특징으로 한다. |
