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특허/실용신안

네가티브형 레지스트 조성물의 검사 방법 및 제조 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
출원번호 10-2016-0098067
출원일자 2016-08-01
공개번호 20160818
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 에칭 내성 및 해상성이 우수하고, 기판 계면에서도 양호한 패턴 형상을 제공하는 네가티브형 레지스트 조성물, 이것을 이용한 패턴 형성 방법, 네가티브형 레지스트 조성물의 검사 방법 및 조정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, (A) 알칼리 가용성이고 산의 작용에 의해 알칼리 불용성이 되는 기재 수지, 및/또는 알칼리 가용성이고 산의 작용에 의해 가교제와 반응하여 알칼리 불용성이 되는 기재 수지와 가교제의 조합, (B) 산발생제, (C) 염기성 성분으로서 질소를 함유하는 화합물을 함유하고, 50 내지 100 nm의 막 두께 X(nm)를 갖는 레지스트막을 성막하기 위한 네가티브형 레지스트 조성물이며, 알칼리 현상액에 대한 용해 속도가 0.0333X-1.0(nm/초) 이상 0.0667X-1.6(nm/초) 이하의 값이 되는 것을 특징으로 하는 네가티브형 레지스트 조성물을 제공한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160098067
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G03F-007/004,G03F-007/038,H01L-021/027
주제어 (키워드)