SI 웨이퍼들 상의 Ⅲ-Ⅴ 디바이스들의 집적화
기관명 | NDSL |
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출원인 | 인텔 코포레이션 |
출원번호 | 10-2016-7003803 |
출원일자 | 2016-02-15 |
공개번호 | 20160609 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 절연 층은 기판 상의 트렌치 내의 복수의 메사 구조 상에 등각으로 피착된다.절연 층은 메사 구조들 외부의 공간을 채운다.핵형성 층은 메사 구조들 상에 피착된다.Ⅲ-Ⅴ 재료 층은 핵형성 층 상에 피착된다.Ⅲ-Ⅴ 재료 층은 절연 층 위에 측방향으로 성장한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167003803 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/02,H01L-021/8258 |
주제어 (키워드) |