스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 제이엑스금속주식회사 |
출원번호 | 10-2016-7012430 |
출원일자 | 2016-05-11 |
공개번호 | 20160603 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | Al 의 함유량이 Al 2 O 3 환산으로 0.2 ∼ 3.0 ㏖%, Mg 및/또는 Si 의 함유량이 MgO 및/또는 SiO 2 환산으로 1 ∼ 27 ㏖%, 잔부가 Zn 의 ZnO 환산의 함유량으로 이루어지는 기본 조성에 대해, 추가로 융점이 1000 ℃ 이하인 저융점 산화물을 형성하는 금속을 산화물 중량 환산으로 0.1 ∼ 20 wt% 함유하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타깃. 황을 함유하지 않고, 벌크 저항이 낮아 DC 스퍼터링이 가능하고, 저굴절률의 광학 박막 형성용 타깃 및 그 제조 방법을 제공한다. 타깃 자체가 고밀도이기 때문에, 이상 방전이 적어, 안정적인 스퍼터링이 가능하다. 또한 스퍼터 성막한 박막은, 투과율이 높고, 비황화물계로 구성되어 있기 때문에, 인접하는 반사층, 기록층의 열화가 잘 발생하지 않는 광정보 기록 매체용 박막의 형성에 유용하다. 광정보 기록 매체의 특성의 향상, 설비 비용의 저감화, 성막 속도의 향상에 의한 스루풋을 대폭 개선한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167012430 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | C23C-014/34,C04B-035/453,C04B-035/645,C23C-014/08 |
주제어 (키워드) |