고순도 2-나프틸아세토니트릴 및 이의 제조 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 가부시키가이샤 에이피아이 코포레이션 |
출원번호 | 10-2022-7017885 |
출원일자 | 2022-05-26 |
공개번호 | 20220629 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명은 다양한 의약품, 농약, 화학 제품 등의 합성을 위한 출발 물질 또는 중간체로 유용한 불순물이 거의 없는 고순도 2-나프틸아세토니트릴, 및 이의 제조 방법을 제공한다. 2-나프틸아세토니트릴의 HPLC 순도가 95 면적% 이상이고 하기 화학식 (a) - (i) 로 나타내지는 나프탈렌 화합물을 미리결정된 면적% 이하의 함량으로 포함하는, 고순도 2-나프틸아세토니트릴. 하기 단계 1 및 단계 2 를 포함하는, 고순도 2-나프틸아세토니트릴의 제조 방법: 단계 1: 필요에 따라 첨가제의 존재 하에 2'-아세토나프톤을 빌게로트 반응에 적용시키고, 수득된 아미드 화합물을 가수분해하여 2-나프틸아세트산을 수득하는 단계; 단계 2: 단계 1 에서 수득된 2-나프틸아세트산과 할로겐화제 및 술파미드를 필요에 따라 촉매 존재 하에 유기 용매 중에서 반응시켜 2-나프틸아세토니트릴을 수득하는 단계. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020227017885 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | C07C-255/33,C07C-253/34 |
주제어 (키워드) |