고순도 불소화 탄화수소, 플라즈마 에칭용 가스로서의 사용, 및, 플라즈마 에칭 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 제온 코포레이션 |
출원번호 | 10-2016-7012656 |
출원일자 | 2016-05-13 |
공개번호 | 20160623 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명은 순도가 99.9 용량% 이상, 포함되는 부텐류가 합계로 1000 용량ppm 이하인 것을 특징으로 하는, 식 : R-F (식 중, R 은 이소부틸기 또는 t-부틸기를 나타낸다.) 로 나타내는 불소화 탄화수소, 이 불소화 탄화수소의 플라즈마 에칭용 가스로서의 사용, 및 상기 불소화 탄화수소를 플라즈마 에칭용 가스로서 사용하여, 실리콘 또는 실리콘 산화막 상에 적층된 무기 질화막을 선택적으로 플라즈마 에칭하는 플라즈마 에칭 방법이다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167012656 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | C07C-019/08,H01L-021/3065,H01L-021/3213 |
주제어 (키워드) |