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특허/실용신안

반도체/디스플레이 플라즈마 화학증착공정 모니터링 전용 실시간 온도편차 보정 발광분광분석시스템

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 주식회사 이엘
출원번호 10-2021-0174428
출원일자 2021-12-08
공개번호 20220622
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 반도체/디스플레이 플라즈마 화학증착공정 모니터링 전용 실시간 온도편차 보정 발광분광분석시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 반도체/디스플레이 플라즈마 화학증착공정에서 균일한 증착막 두께와 균일한 증착막 굴절률을 제어하고 모니터링할 수 있도록, 화학증착 공정챔버의 온도, 가스농도의 변화 등에 따른 보정 인자가 반영된 균일한 발광분광분석(OES ; Optical Emission Spectromtry) Intensity 측정을 위하여, OES를 통해 얻어진 spectrum의 차이가 최소화되는 특정 기준 온도로 보정된 spectrum을 찾도록 OES로 측정된 spectrum 중 N2(질소) 가스 온도를 실시간으로 측정하고 수치적으로 계산된 spectrum을 비선형최소제곱법(Non-linear least squares method)을 적용하여, 증착공정 모니터링에 필요한 증착막 두께와 증착막 굴절률의 변화에 관한 정보인 실시간 온도정보(real-time temperature information(RTI))를 계산하여 제공함으로써 반도체/디스플레이 산업에 필요한 플라즈마 화학증착공정의 정밀하고 신뢰할 수 있는 균일한 양산설비를 구축할 수 있는 반도체/디스플레이 플라즈마 화학증착공정 모니터링 전용 실시간 온도편차 보정 발광분광분석시스템에 관한 것이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020210174428
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G01N-023/2209,G01J-003/443,G01N-023/2273,G01N-027/04,H01L-021/67
주제어 (키워드)