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나노리소그래피용 폴리락티드/실리콘 함유 블록 공중합체

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기관명	NDSL
출원인	보드 오브 리전츠, 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템
출원번호	10-2014-7024163
출원일자	2014-08-28
공개번호	20141121
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 매우 낮은 분자량에서 자기 조립하여 매우 작은 피처를 형성하는 이블록 공중합체계를 포함한다. 일 실시형태에서, 블록 공중합체 중 중합체 하나는 실리콘을 함유하며, 나머지 중합체는 폴리락티드이다. 일 실시형태에서, 블록 공중합체는 음이온 중합 반응 및 개환 중합 반응의 조합에 의해 합성된다. 일 실시형태에서, 이 블록 공중합체의 목적은 리소그래피 패턴화에서 에칭 마스크로서 사용될 수 있는 나노다공성 물질을 형성하는 것이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020147024163
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