원자층 식각 장비를 이용한 MRAM 물질 식각 부산물 제거 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 성균관대학교산학협력단 |
출원번호 | 10-2014-0041941 |
출원일자 | 2014-04-08 |
공개번호 | 20151022 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | MRAM 물질의 손상을 최소화하면서 제거할 수 있는 MRAM 물질 식각 부산물 제거 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 MRAM 물질 식각 부산물 제거 방법은 반응챔버 내부에 흡착가스를 주입하여 재증착층에 흡착시키는 제1 단계, 상기 흡착가스 중 상기 재증착층에 흡착되지 않고 남은 가스를 상기 반응챔버 외부로 배출하는 제2 단계, 상기 흡착가스가 흡착된 재증착층에 반응성 이온빔을 조사하여 상기 재증착층을 탈착시키는 제3 단계 및 탈착된 혼합물을 상기 반응챔버 외부로 배출하는 제4 단계를 포함할 수 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020140041941 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/302,G11C-011/15,H01L-021/3065,H01L-043/08 |
주제어 (키워드) |