기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

습식 스크러버 노즐 시스템 및 공정 가스를 세정하기 위한 사용 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 제네럴 일렉트릭 테크놀러지 게엠베하
출원번호 10-2016-0081390
출원일자 2016-06-29
공개번호 20160728
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 적어도 제 1 분사 레벨 시스템(40), 및 습식 스크러버 타워(14)에서 제 1 분사 레벨 시스템(40) 위에서 콤팩트하고 수직으로 배열된 제 2 분사 레벨 시스템(48)을 포함하는, 공정 가스(F)를 세정하는데 유용한 습식 스크러버(10)가 개시된다. 각 분사 레벨 시스템(40, 48)은 환경 오염물 제거를 위해 공정 가스(F)와 접촉하고 상호혼합하기 위해 노즐에 공급되는 흡착액(AL)을 분무하기 위한, 복수의 분무 평탄화된 비교적 광폭의 분사 각도 노즐(56)이 장비된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160081390
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B01D-047/06,B01D-047/12,B01D-053/14,B01D-053/40,B01D-053/50,B01D-053/79
주제어 (키워드)