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원격 플라즈마 소스 블록의 아노다이징 처리 방법 및 그에 의한 원격 플라즈마 소스 블록

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기관명	NDSL
출원인	(주)뉴젠텍
출원번호	10-2015-0001014
출원일자	2015-01-06
공개번호	20160721
공개일자	2016-07-18
등록번호	10-1640560-0000
등록일자	2016-07-12
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 원격 플라즈마 소스 블록의 아노다이징 처리 방법 및 그에 의한 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이고, 구체적으로 서브 블록을 형성하여 경로를 가공하고 그리고 아노다이징 공정으로 내부 경로 및 표면의 물리적 특성이 형성되도록 하는 원격 플라즈마 소스 블록의 아노다이징 처리 방법 및 그에 의한 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이다. 원격 플라즈마 소스 블록의 아노다이징 처리 방법은 서로 결합이 되어 내부에서 발생되는 플라즈마의 이동을 유도할 수 있는 서브 블록을 형성하는 단계; 상기 플라즈마의 이동을 위한 내부 경로를 가공하는 단계; 상기 내부 경로에서 꺾임 면을 미리 결정된 곡률 반지름에 따라 가공하는 단계; 상기 내부 경로를 미리 결정된 특성 수준에 따라 아노다이징을 하는 단계; 및 상기 아노다이징이 서브 블록의 표면을 연마하는 단계를 포함한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020150001014
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