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다변량 분석을 이용한 플라즈마 에칭 종료점 검출

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기관명	NDSL
출원인	도쿄엘렉트론가부시키가이샤
출원번호	10-2015-7012887
출원일자	2015-05-15
공개번호	20150625
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	발광 분석(OES) 데이터를 입력으로 사용하여 에칭 처리의 종료점을 결정하는 방법이 개시된다. 발광 분석(OES) 데이터는 플라즈마 에칭 처리 도구에 부착된 분광계에 의해 획득된다. 획득된 시간 전개 스펙트럼 데이터는 먼저 필터링 및 탈중위화되고, 그 다음에 주성분 분석과 같은 다변량 분석을 이용하여 변환형 스펙트럼 데이터 또는 추세로 변환되며, 이때 미리 산출된 주성분 가중치가 상기 변환을 달성하기 위해 사용된다. 복수의 추세를 포함한 함수형은 에칭 처리의 종료점을 더 정밀하게 결정하기 위해 사용될 수 있다. 이전의 에칭 처리로부터 수집된 OES 데이터에 기초하여 실제 에칭 전에 주성분 가중치를 산출하는 방법이 개시되고, 이 방법은 에칭 처리 종료점의 효율적이고 정확한 인라인(in-line) 결정을 위해 추세의 급속 산출 및 복수의 추세를 수반하는 함수형의 급속 산출을 촉진한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157012887
첨부파일

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