| 초록 |
본 발명의 일 태양의 멀티 하전 입자빔 묘화 장치는, 멀티 하전 입자빔 중 1 개의 빔당 조사 단위 영역이 되는 화소마다, 당해 화소에 대한 빔 조사량과 당해 화소의 주위 중 적어도 1 개의 화소에 대한 빔 조사량을 변조함으로써 당해 화소에 조사되는 위치 이탈이 발생하고 있는 빔에 의해 형성되는 패턴의 위치 이탈, 치수 이탈을 보정하기 위한 당해 화소에 대한 빔의 변조율과 당해 화소의 주위 중 적어도 1 개의 화소에 대한 빔의 변조율을 산출하는 변조율 데이터 산출부와, 화소마다, 산출된 당해 화소에 대한 빔의 변조율을 당해 화소의 위치에 정의하고, 또한 산출된 당해 화소의 주위 중 상기 적어도 1 개의 화소에 대한 빔의 변조율을 당해 화소와 관련시켜 당해 화소의 주위 중 상기 적어도 1 개의 화소의 위치에 정의하도록, 멀티 하전 입자빔에 의해 묘화되는 묘화 영역에 대하여 변조율이 정의된 변조율 맵을 작성하는 변조율 맵 작성부와, 화소마다, 상기 변조율 맵에 정의된 당해 화소에 대한 빔의 변조율과 당해 화소에 대한 빔 조사량을 곱한 값과, 주위 중 상기 적어도 1 개의 화소로서 상기 변조율 맵의 당해 화소의 위치에 정의된 상기 적어도 1 개의 화소에 대한 빔의 변조율과 상기 적어도 1 개의 화소의 관련처가 되는 화소에 대한 빔 조사량을 곱한 값을 가산한 보정 조사량을 연산하는 보정 조사량 연산부를 구비한 것을 특징으로 한다. |
