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특허/실용신안

박막 형성 방법 및 박막 형성 장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
출원번호 10-2016-0056765
출원일자 2016-05-10
공개번호 20160519
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 양호한 특성을 갖는 박막을 형성할 수 있는 박막 형성 방법 및 박막 형성 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 박막 형성 방법은, 제1 원료 가스와 제2 원료 가스를 반응실 내에 공급하는 제1 공정과, 제1 원료 가스의 공급을 정지하고, 제2 원료 가스를 반응실 내에 공급하고, 반응실 내의 압력을 제1 공정에서의 압력과 비교해서 높게 하는 제2 공정을 구비하고, 제1 공정과 제2 공정을 교대로 복수회 반복함으로써, 반응실 내에 수용된 피처리체에 박막을 형성한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160056765
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-021/02,C23C-016/40,C23C-016/455,C23C-016/52,H01L-021/285
주제어 (키워드)