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변조 디바이스 및 전력 공급기 배열

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기관명	NDSL
출원인	마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
출원번호	10-2014-7035209
출원일자	2014-12-15
공개번호	20150205
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 다중 빔렛 하전 입자 리소그래피 시스템에서 패턴 데이터에 따라 하전 입자 빔렛들을 변조하기 위한 변조 디바이스에 관한 것이다.디바이스는, 플레이트형 바디, 빔렛 편향기들의 어레이, 적어도 2개의 상이한 전압들을 공급하기 위한 복수의 전력 공급기 단자들(202-205), 복수의 제어 회로들, 및 전력 공급기 단자들(202-205) 중 하나 또는 그 이상에 전력을 공급하기 위한 도전성 슬랩(201)을 포함한다.플레이트형 바디는 세장형 빔 영역(51)과 세장형 넌-빔 영역(52)으로 분할되며, 이들의 긴 에지들이 서로 인접하게 위치된다.빔렛 편향기들은 빔 영역에 위치된다.제어 회로들은 넌-빔 영역에 위치된다.도전성 슬랩은 넌-빔 영역의 제어 회로들에 접속된다.도전성 슬랩은 복수의 얇은 도전성 플레이트(202-205)를 포함한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020147035209
첨부파일

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