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특허/실용신안

에칭 처리 방법 및 베벨 에칭 장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
출원번호 10-2015-0175608
출원일자 2015-12-10
공개번호 20160623
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 (과제) 베벨부의 에칭 처리에 있어서 레이저광의 출력치의 이상을 검출한다. (해결 수단) 레이저 제네레이터와 촬상부를 갖고, 레이저광을 조사하여 기판을 에칭하는 베벨 에칭 장치를 이용한 에칭 처리 방법으로서, 상기 레이저 제네레이터로부터 조사되는 레이저광의 산란광에 의해 처리 용기 내를 비추고, 상기 촬상부에 의해 상기 처리 용기 내의 화상을 촬상하는 공정과, 촬상한 상기 처리 용기 내의 화상 중, 미리 선정한 소정 영역의 화상의 휘도를 산출하는 공정과, 상기 레이저 제네레이터로부터 출력되는 레이저광의 출력치와 휘도의 상관 관계를 나타내는 데이터에 근거하여, 산출한 상기 휘도에 대한 상기 레이저광의 출력치를 감시하는 공정을 포함하는 에칭 처리 방법이 제공된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150175608
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-021/311,H01L-021/268,H01L-021/3065,H01L-021/3213,H01L-021/66
주제어 (키워드)