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레지스트 조성물의 제조 방법 및 패턴 형성 방법

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
출원번호	10-2015-0041198
출원일자	2015-03-25
공개번호	20151015
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은, 도포 결함이 저감된 레지스트 조성물을 제조할 수 있는 레지스트 조성물의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 반도체 장치 제조 공정에서 사용되는 레지스트 조성물의 제조 방법으로서, 상기 레지스트 조성물의 제조 장치를 세정액으로 세정하고, 이 세정액을 상기 제조 장치로부터 취출하여 분석하고, 이 세정액 중에 포함되는 금속 성분의 농도가 5 ppb 이하가 될 때까지 세정한 후에, 상기 제조 장치로 상기 레지스트 조성물을 제조하는 레지스트 조성물의 제조 방법.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150041198
첨부파일

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