진보된 배선들을 위한 유전체 캡핑 배리어로서의 금속-함유 필름들
기관명 | NDSL |
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출원인 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 |
출원번호 | 10-2016-7019667 |
출원일자 | 2016-07-19 |
공개번호 | 20160825 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 반도체 디바이스들에서 사용하기 위한 배선 구조를 형성하기 위한 방법이 제공된다.방법은, 기판 상에 저-k 벌크(bulk) 유전체 층을 형성하는 것으로 시작되며, 그런 다음, 저-k 벌크 유전체 층 내에 트렌치를 형성한다.라이너 층이 저-k 벌크 유전체 층 상에 형성되며, 라이너 층은 트렌치에 대해 등각적으로(conformally) 증착된다.구리 층이 라이너 층 상에 형성되어, 트렌치를 충진한다.저-k 벌크 유전체 층, 라이너 층 및 구리 층의 상부 표면을 형성하기 위해, 구리 층 및 라이너 층의 일부분들이 제거된다.금속 함유 유전체 층이 저-k 벌크 유전체 층, 라이너 층 및 구리 층의 상부 표면 상에 형성된다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167019667 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/768,H01L-023/528,H01L-023/532 |
주제어 (키워드) |