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특허/실용신안

인-시튜 챔버 처리 및 증착 프로세스

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
출원번호 10-2016-7000331
출원일자 2016-01-07
공개번호 20160128
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명의 실시예들은 처리 챔버의 내부 표면들을 처리하고 원자층 증착(ALD) 또는 화학 기상 증착(CVD)와 같은 기상 증착 프로세스 동안 물질을 증착하기 위한 방법을 제공한다. 일 실시예에서, 처리 챔버의 내부 표면들 및 기판은 선처리 프로세스 동안 수소화 리간드 화합물과 같은 시약에 노출될 수 있다.수소화 리간드 화합물은 이후의 기상 증착 프로세스 동안 사용되는 금속-유기 전구체로부터 형성된 프리 리간드와 동일한 리간드일 수 있다.프리 리간드는 통상 증착 프로세스 동안 수소화 또는 열분해(thermolysis)에 의해 형성된다.일 예에서, 처리 챔버 및 기판은 펜타키스(디메틸아미노) 탄탈(PDMAT)과 같은 알킬아미노 리간드들을 가지는 금속-유기 화학 전구체를 이용하는 기상 증착 프로세스를 수행하기 전에 선처리 프로세스 동안 알킬아민 화합물(예, 디메틸아민)에 노출된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167000331
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-021/02,C23C-016/34,C23C-016/44,C23C-016/455,H01L-021/28
주제어 (키워드)