반도체 장치
기관명 | NDSL |
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출원인 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
출원번호 | 10-2016-0091128 |
출원일자 | 2016-07-19 |
공개번호 | 20160728 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 산화물 반도체를 사용한 박막 트랜지스터를 구비한 화소를 제작할 때에, 생산성의 향상을 도모한다. 기판 위에 형성된 게이트 전극으로서 기능하는 제 1 배선과, 상기 제 1 배선 위에 형성된 게이트 절연막과, 상기 게이트 절연막 위에 저저항 산화물 반도체층 및 상기 저저항 산화물 반도체층 위에 도전층이 적층되어 형성된 제 2 배선, 그리고, 상기 저저항 산화물 반도체층 및 상기 저저항 산화물 반도체층의 화소 전극으로서 기능하는 영역이 노출되도록 상기 도전층이 적층되어 형성된 전극층과, 상기 게이트 절연막 위의 상기 제 2 배선과 상기 전극층 사이에 형성된 고저항 산화물 반도체층을 갖는다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160091128 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-027/12,H01L-021/02,H01L-029/45,H01L-029/66,H01L-029/786 |
주제어 (키워드) |