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특허/실용신안
고속 원자층 증착 장치 및 이를 이용한 증착 방법
특허 실용신안 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 주식회사 엘지화학 |
| 출원번호 | 10-2014-0033150 |
| 출원일자 | 2014-03-21 |
| 공개번호 | 20151008 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 본 발명은 불활성 가스 또는 상기 불활성 가스와 기상(氣相)의 전구체가 혼합된 형태의 전구 가스가 도입되는 반응 챔버; 상기 불활성 가스를 공급하는 가스 공급기; 상기 전구 가스를 생성시키기 위한 전구체를 내장하고 있는 전구체 저장소; 상기 불활성 가스 또는 전구 가스를 일시적으로 저장하는 제 1 저장소; 상기 불활성 가스 또는 전구 가스가 제 1 저장소로부터 챔버 내로 공급되는 것을 조절하는 제 1 밸브; 상기 불활성 가스 또는 전구 가스가 제 1 저장소 내로 공급되는 것을 조절하는 제 2 밸브; 상기 전구체 저장소의 출구에 연결되어 있는 제 3 밸브; 일측 단부가 상기 가스 공급관에 연결되어 있고, 타측 단부가 상기 제 2 밸브와 제 3 밸브 사이의 가스 도관에 연결되어 있는 우회 도관; 상기 불활성 가스를 일시적으로 저장하는 제 2 저장소; 상기 불활성 가스가 제 2 저장소로부터 제 2 밸브와 제 3 밸브 사이의 가스 도관으로 공급되는 것을 조절하는 제 4 밸브; 상기 불활성 가스가 가스 공급관으로부터 제 2 저장소 내로 공급되는 것을 조절하는 제 5 밸브; 및 상기 챔버 출구에 연결되어 있고 상기 반응 챔버 내부 및 장치 내 가스 도관에 반응하지 않고 남아 있는 가스 및 반응부산물을 외부로 배출시키는 진공 펌프;를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치를 제공한다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020140033150 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | |
| 주제어 (키워드) |