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초소수성 표면체 및 개시제를 사용하는 화학기상증착 반응기(iCVD)를 이용한 초소수성 표면체의 제조방법

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기관명	NDSL
출원인	한국과학기술원
출원번호	10-2015-0100593
출원일자	2015-07-15
공개번호	20150807
공개일자	2016-07-29
등록번호	10-1644025-0000
등록일자	2016-07-25
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 기계적 강도 및 화학적 강도가 향상된 초소수성 표면체 및 개시제를 사용하는 화학기상증착 반응기(iCVD)를 이용한 초소수성 표면체의 제조방법에 관한 것으로, (a) 기판의 상면에 가교제를 증착시키는 단계; (b) 상기 기판의 상면에 증착되어 있는 가교제 위에 초소수성 단량체를 증착시키는 단계; (c) 기판의 하면에 가교제를 증착시키는 단계; 및 (d) 상기 기판의 하면에 증착되어 있는 가교제 위에 초소수성 단량체를 증착시켜 초소수성 표면체를 제조하는 단계를 포함하며, 본 발명에 따른 초소수성 표면체는 기계적 강도 및 화학적 강도가 우수하여, 물로부터 오일의 분리, 에너지 전환, 전자장비의 보호, 바이오의학 분야에서 세포 기질 접합 조절, 미세유체장치에서 유체저항의 감소 등의 용도로 다양하게 이용될 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020150100593
첨부파일

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