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특허/실용신안

전극 생산 방법 및 전극 생산 제어 시스템

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 닛산 지도우샤 가부시키가이샤
출원번호 10-2012-0148129
출원일자 2012-12-18
공개번호 20130712
공개일자 2014-12-04
등록번호 10-1469332-0000
등록일자 2014-11-28
권리구분 KPTN
초록 본 발명의 과제는 전극 재료의 특성 변동에 의한 영향을 억지하고, 도포 시공 조건의 재설정에 의한 전극 생산의 생산성 저하를 방지하여, 품질이 안정된 전극의 생산을 실현하는 전극 생산 방법 및 전극 생산 제어 시스템을 제공하는 것이다. 연속해서 공급되는 전극 재료(305A)의 특성 값을 계측하는 계측 수단(309A, 309B, 309C, 313)과, 계측 수단에 의해 계측된 전극 재료의 특성 값의 초기 값에 대한 변동량을 기초로 하여 전극 재료의 도포 시공 조건을 제어하는 도포 시공 조건 제어 수단(32)을 갖는다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020120148129
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01M-004/04,B05C-009/00,B60L-011/18,H01M-010/052
주제어 (키워드)