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패턴 계측 장치 및 반도체 계측 시스템

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기관명	NDSL
출원인	가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
출원번호	10-2014-7022784
출원일자	2014-08-14
공개번호	20141023
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은, 제조 조건을 미세하게 변화시키는 것에 의한 제조 비용의 증대를 억제하면서, 적정한 기준 패턴 데이터를 생성하는 패턴 계측 장치의 제공을 목적으로 한다.본 발명은, 시료 상에 형성된 패턴의 측정을 행하는 연산 처리 장치를 구비한 패턴 계측 장치로서, 상기 연산 처리 장치는 하전 입자선 장치에 의해 얻어진 신호에 기초하여, 제조 장치의 제조 조건이 다른 복수의 회로 패턴의 화상 데이터, 혹은 윤곽선 데이터를 취득 또는 생성하고, 그 화상 데이터, 혹은 윤곽선 데이터로부터, 회로 패턴의 계측에 사용하는 기준 데이터를 생성하는 것을 특징으로 하는 패턴 계측 장치를 제안한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020147022784
첨부파일

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