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특허/실용신안
검사 방법
특허 실용신안 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 |
| 출원번호 | 10-2015-0118844 |
| 출원일자 | 2015-08-24 |
| 공개번호 | 20160317 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 본 발명의 실시 형태는, 피검사 대상의 위치 좌표를 정확히 측정하여 검사를 행할 수 있는 검사 방법을 제공한다. 실시 형태의 검사 방법은, 레이저 간섭계를 사용하여 스테이지의 위치 좌표를 측정하면서, 그룹 중 하나에 있어서의 스트라이프 영역을 주사한 후, 상이한 그룹의 스트라이프 영역을 주사하여, 스트라이프 영역 전부에 있어서의 광학 화상을 취득한다.스테이지의 위치 좌표의 측정값과, 패턴의 광학 화상과, 패턴의 설계 데이터로부터 작성된 참조 화상으로부터 패턴의 위치 좌표를 구하여, 광학 화상과 참조 화상의 위치 어긋남양을 취득하고, 이 위치 어긋남양과 광학 화상의 취득 순서의 관계를 나타내는 제1 위치 어긋남 정보를 얻는다.제1 위치 어긋남 정보의 근사 곡선인 제2 위치 어긋남 정보를 얻고, 이 차분인 제3 위치 어긋남 정보를 얻는다.또한 제3 위치 어긋남 정보에 있어서의 위치 어긋남양과, 설계 위치 좌표의 관계를 나타내는 제4 위치 어긋남 정보를 얻는다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150118844 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | H01L-021/66,G03F-001/84,H01L-021/027,H01L-021/033 |
| 주제어 (키워드) |