| 초록 |
EUV 투영 리소그래피를 위한 조명 광학 유닛은 광원(2)으로부터 나오는 조명 광으로 조명 필드(4)를 조명하는 기능을 한다. 조명 광학 유닛의 제1 패싯 미러는 EUV 조명 광(12)의 빔의 부분 빔(23)들을 반사하여 가이드하는 복수의 제1 패싯(21)을 구비한다. 상기 제1 패싯 미러의 다운스트림에는, 상기 부분 빔(23)들을 반사하여 더 가이드하는 복수의 제2 패싯(26)을 구비하는 제2 패싯 미러가 배치된다. 그 결과, 2개의 패싯(21, 26)이 빔을 반사하고 가이드하는 것에 의해 전체 오브젝트 필드(4)가 각 경우에 조명 광에 의해 조명가능하고 각 경우에 정확히 하나의 제1 패싯(21)과 정확히 하나의 제2 패싯(26)이 할당되는 오브젝트 필드 조명 채널(22)이 미리 결정된다. 상기 제1 패싯 미러는 오브젝트 필드 조명 채널(22)의 개수에 대응하는, 광원의 복수의 이미지(14)들 중 하나의 이미지를 생성하는 이미징 광학 유닛의 일부이다. 상기 제1 패싯(21)들은 상기 제2 패싯(26)들을 통해 서로 중첩되는 방식으로 상기 오브젝트 필드(4)로 이미징된다. 상기 조명 광학 유닛은 상기 제2 패싯(26)들이 연관된 오브젝트 필드 조명 채널(22)을 따라 상기 광원(2)의 연관된 이미지(14)로부터 일정 거리에 배열되는 방식으로 구성된다. 상기 조명 광학 유닛(3)은 상기 제2 패싯(26)들이 연관된 오브젝트 필드 조명 채널(22)을 따라 상기 광원(2)의 연관된 이미지(14)로부터 일정 거리에 배열되는 방식으로 구성된다. 상기 제2 패싯(26)에서 반사 손실이 이러한 조명 광학 유닛에서 최소화된다. |
