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특허/실용신안

극자외선 광의 발생을 위한 시스템 및 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 케이엘에이-텐코 코포레이션
출원번호 10-2016-7004203
출원일자 2016-02-18
공개번호 20160404
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 EUV 광원은 플라즈마 형성 타겟 재료로 코팅된 표면을 갖는 회전형 원통형 대칭 요소, 플라즈마 형성 타겟 재료의 여기에 의한 플라즈마의 형성을 통해 EUV 광을 발생하는 데 충분한 하나 이상의 레이저 펄스를 발생하도록 구성된 구동 레이저 소스, 회전형 원통형 대칭 요소의 표면 상에 하나 이상의 레이저 펄스를 포커싱하도록 구성된 포커싱 광학 기기의 세트, 발생된 플라즈마로부터 나오는 EUV 광을 수용하도록 구성되고 또한 조명을 중간 초점으로 유도하도록 구성된 집광 광학 기기의 세트, 및 회전형 원통형 대칭 요소의 표면에 플라즈마 형성 타겟 재료를 공급하도록 구성된 가스 공급 서브시스템을 포함하는 가스 관리 시스템을 포함한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167004203
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H05G-002/00,G01J-001/16,G01N-021/956,G03F-007/20
주제어 (키워드)