| 초록 |
본 발명은 피부 자극 물질 스크리 닝용 조성물 및 이를 이용한 피부 자극 물질의 스크리닝 방법에 관한 것이다. 본 발명의PI3, CEBPA, SERP INB3, HOPX, SPRR1A, NOD2, LCE3D, CNFN, TMTC1, KRTDAP, ANKRD35, SBSN, BPIL2, RDH12, FLG, H19, FLG2, LOR, IVL, NLRX1, ALDH1A3, DSC2, RHCG, SCEL, IL20, S100A8, S100A9, S100A12, BNIPL, SPRR3, TMEM79, FAM84A, GRHL1, SGPP2, AADACL2, TPRG1, PPP2R2C, SPINK5, ATP10B, GPR110, IL20RA, DEFB1, SLC28A3, AIF1L, CLIC3, NEBL, CARD18, PLBD1, GLTP, TGM1, ZNF750, DSC1, SERPINB13, EMR2, KLK10, COX7A1, SULT2B1 및 KLK7 유전자는 피부자극 물질로 일반적인 하이드로퀴논, 레티노산 또는 SLS를 처리하는 경우, 발현양이 증가하거나 감소함으로써, 상기 유전자를 이용하여 유해한 피부 자극 물질을 스크리닝할 수 있다. 따라서, 화장품 원료 물질의 동물실험이 금지되어 이를 대체할 수 있는 피부 자극 물질을 스크링하는 방법으로 유용하게 사용할수 있다. |
